2023光刻机产业发展简析报告.docx
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1、MARKETANA1.YSIS嘉世咨询AMKllPcMVu*waacM光刻机.行业简析报告TheMaskAligner商业合作讷容转载更多9告xh归属P嘉世营咨询p限公司Z刻机是芯W制中的最核心y节Z机是生i芯W的心装备,被誉半ii体,业皇冠P的明珠。Z机是一种投影Z系统:Z机由Z源、照明系统、物镜、冲A等部D组装而心在芯W制作中,Z机会投射Z束,穿过印PA案的Z。膜X及Z学镜W,将线路AZ在带PZ感涂层的硅晶0SP。芯W制过程需要用到的设备种类繁多,包括氧化炉、涂胶显影机在整个半ii体芯W制过程中,Z是最复gy艺,Zy艺的费用DS芯W制rq的1/3D6,耗费时间S比D40-50%,Zy艺所需
2、的Z机是最费的半u体设备。Z刻机工艺的发展史Z刻工艺流程Az三波长(nm)U应设小工艺节点(nm)主要用途第Tg-line436接触式8-2506u晶圆接近式800-250第Dii-line365接触式8-2506usoAn接近式800-250第OiKrF248扫i投影式180-1308。晶圆第四iArF193nB扫i投影130-6512。晶国没式nB扫i投影45-22第五iEUV13.5极紫外22-712口晶园数据来源I公开数据整理;嘉世咨询研究结论;A源网D2.Z刻机的技术水决定集r电路的发展水Z机的术水很大程度P决定了集r电路的发展水着EUVZ机的出A,芯W制程最小达到3nm目前ASM1
3、.l在研发High-NAEUVZ机,制程产达2nm、1.8nm,预2025U英达在23GTC大会P也表示W通过突破性的Z算BCU1.iIho,将算2值4()倍冲,使得2nm及更YB芯W的生什中能,ASMUA积电已参P合作,届时将带动芯W性能再次O高。各个工艺节点和Z刻技术的关系ASM1.ii客户节点演进的预测制程晶版尺QN属材料Z刻机类型0.5um200mmAlg-linc436nm0.35um200mmAli-line:365nmO.25um200mmAlKrF:248nm(slcpper)0.18um200mmAlKrF:248nm(stepper&scanner)0.13um200300
4、mmAl/CuArFJ93nm90nm300mmAl/CuArFJ93nm6555nm300mmCuArR193nm4540nm300mmCuArFi:193nm(134nm)28nm300mmCuArFi:193nm(l34nm)2220nm300mmCuArFi:193nm(134nm)I6l4nm300mmCuArFi:193nm(134nm)IOnm300mmCuArFi:193nm(134nm)7nm300mmCuEUV:13.5nmArFi:193nm(134nm)5nm300mmCuEUV:13.5nm3nm300mmCuEUVJ3.5nmHighNAProdUCtiOnInse
5、nionWindowStorageClassMemoryEUVProductionInsenionWindowMin.1/2pitchxnumberotlayersPlanarXnumberoflayersNAND2Xx22X4IYx4IY7x8next1415X152x192x256300数据来源公开数据整理;嘉世咨询研究结论;A源网Dsy以举y之力发展Z刻机产业syz机的研制起n并O晚,早在701就研制出接触式BllZ系统,由于早期SV半U体i业的整体落A,R及VC)如买=的思潮影响,Z机i业化落地滞A.2002ArFZ机被列入863划=、2008启动02_u=,Z机i业才再度觉S1.SV
6、Z机攻尖采X类ASM1.的模式,细分各科研院所、高校做分系统,再由SMEEB行整机组装。中科院微电子所、长Z所、PZ所,清华大学、浙江大学、哈J大等均参PZ机的研发,目前法Z机的分系统基q通过验收,0续i业化落地,并继续担02Ji=B行法Z机分系统研发。y内Z刻机重点项目主要产业化落地公司及进展分系统产业化公司主要股东相关项目公司进展整机P微电子P电气(PAV费委)、P张江浩r创投I张江高科)02_il90nmZ机机研制:02_uRz机S健术预研口目:.U目均通过了验收,90nmArFZ机SSA600系列实A出-Z源系统科益虹源中科院微电子所、i庄,投、哈勃投资02准分子激Z术r果i业化藏体:
7、193nmArl高能准分子激Z器完r出一,40W4kHzKrI准分子激Z器批量生1.Z学系统y望Z学i庄y投、长Z集团(长Z所)02D期面向28nm节点的ArF没式ZZZ学系统研发:90nmArF投影Z机ZZ学系统交付用户:28nmArF没式Zl*ZZ学系统研发攻S任QB展Ij利.Z学系统V科精密9望Z学02-期高NA没Z学系统S键术研究:02D期没式Z机Z学系统T品研制P批量生i能力建设.02寓NA没Z学系统S健术研究U目通过验收:0.75NA投影物优0.75NA照明系统均实A交付(9OnmArFZ源);28nmArFiZ系统在研.双VbA系统华卓精科清华大学朱煜等O个02工,包括IC装备高
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