第四章货物需求一览表及技术规格.docx
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1、第四章货物需求一览表及技术规格北京理工大学激光直写设备采购项目需求序号设备名称数量/单位是否允许进口控制预算1激光直写设备1台是145万元一、采购标的需实现的功能或者目标,为落实政府采购政策需满足的要求(一)项目基本情况介绍本项目拟采购激光直写设备1台,预算金额145万元(人民币)。激光直写设备采购品目属于政府采购品目分类目录(2022年印发)中的A电子工业生产设备。(二)采购标的实现的功能或者目标激光直写设备的主要功能是通过无掩模光刻的方式在辂片掩膜版、陶瓷基片以及硅片上进行无掩膜曝光,以便在光刻胶表面生成尺寸精确的特征图形,包含二维图形与三维图形。(三)为落实政府采购政策需满足的要求详见第
2、一章。.二、采购标的需执行的国家相关标准、行业标准、地方标准或者其他标准、规范无。三、采购标的需满足的质量、安全、技术规格、物理特性等要求#1、激光直写设备主要通过无掩模光刻的方式在铝片掩膜版、陶瓷基片以及硅片上进行无掩膜曝光,以便在光刻胶表面生成尺寸精确的特征图形,包含二维图形与三维图形。#2、设备至少包括以下主要部件:直写模块、直写光源、样品台模块、显微镜模块、对准,对焦及校正模块、计算机及软件等模块。3、设备组成:3.1 直写模块:#3.1.1采用数字微镜技术;3.L2直写分辨率:0.6m,1.0Hnb2.Oum,5.0Hln四种分辨模式,且不同分辨率模式可通过软件自动切换。最快直写速度
3、(mm2min):170.6um,501Unb1002um,1805m;#3.L3对准及套刻精度:0.5m;3. L4灰度直写等级:2255级三维图形曝光;4. 2直写光源3.2.1光源波长:385nm波长长寿光源(工作寿命210000小时),适用于g-,h-,i-line正负光刻胶。有升级365nm与405nm波长双光源的空间:5. 2.2光源功率:1.5W;6. 3样品台模块7. 3.1最大基片尺寸:223OmmX230mm;8. 3.2最大基片厚度:15mm;3.3.3最大直写加工区域:195mm195mm;3. 3.4配备X、Y、Z三维直流线性位移电机,步进精度IOOnn1;4. 4显
4、微镜模块5. 4.1集成光学显微镜系统,放大倍数分别为:X3/X5/X10/X20,4种放大倍数可通过软件自动切换;6. 4.2软件界面额外的X4数码变焦;7. 4.3配有光学轮廓探测系统,可对显影后的图形进行二维成像;3 .4.4配有光学成像拼接模块,可对样品进行大面积光学成像,方便寻找目标位置。4 .5对准、对焦及校准模块3.5.1配备虚拟掩膜对准软件,用于曝光前检查图形在基底上的位置;#3.5.2配备自动对焦组件,可对表面不平整的样品进行Z向聚焦加工面自动调节;升3.5.3带寻找最优光刻参数模块和灰度光刻校正模块。# 3.5.4配备自动标记识别功能,可快速自动识别特定图形标记图案,适用于
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