我国芯片设计业专利竞争力的成就与政策建议.docx
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1、我国芯片设计业专利竞争力的成就与政策建议申其辉(国务院工业与信息化部IT经济研究所,北京100846)摘要:集成电路(IC)是高新技术产业进展的基石,也是国民经济的基础性与战略性产业。IC专利竞争力已经成为衡量一个国家科技进展水平的核心指标。处于IC领域龙头地位的IC设计业,是提升我国专利竞争力的关键。应采取多方面的政策措施,提升其专利竞争力,要提高政府基金绩效,重点支持IC重大专项的专利产出,把绘制专利地图作为公共服务平台建设的着力点,以IP核与SOC产品设计为突破口,迅速提高IC设计业的专利竞争力。关键词:IC设计业;专利;竞争力中图分类号:F49文献标识码:A集成电路(下列简称IC)是高
2、新技术产业进展的基石,对传统产业也具有极大的渗透性与带动作用,是国民经济的基础性与战略性产业。我国政府一直把大力进展IC技术与产业放在极其重要的位置。IC专利竞争力是衡量一个国家科技进展水平的核心指标,也是一个国家技术安全与综合实力的重要表征。IC设计作为集成电路产业的龙头,是提升我国高技术产业专利竞争力的关键。本文第一节总结了我国IC设计专利竞争力的要紧成就,第二节分析了IC设计业各领域专利竞争力的现状,第三节剖析了IC设计业专利竞争力的经济环境,第四节提出了有关计策与建议。1我国IC设计专利竞争力的要紧成就中国IC产业通过五十多年的进展,已经形成了很大的规模。“十五”期间IC产业高速进展,
3、2000-2004年的IC产业的建设投资额为140亿美元,是前30年的四倍多。产业规模迅速扩大,平均增长49.6%,销售收入在全球所占份额由2000年的0.8%上升到3.7%。我国Ie设计水平取得突破性进展,涌现了一批拥有专利技术的IC产品。“龙芯”、“方舟”、“众志”、“星光”、“网芯”、“展讯”、“中视一号”、“信芯”、“通心一号”等嵌入式及专用CPU,“爱国者”图像解压缩、MP3、数字电视接收机信道、信源芯片等数字音视频芯片,“华厦网芯”、“畅讯恒芯”等网络芯片为代表的一批拥有专利技术的产品相继推向市场。1.1IC设计业为我国高技术专利的申请增速发挥了重要作用专利申请量与授权量是专利竞争
4、力状况的最要紧指标。随着我国IC产业规模的迅速扩大,IC专利技术的竞争力逐步提升,本土企业拥有专利数量的差距不再像往常那样悬殊,逐步改变了专利竞争中被动挨打的局面。“十五”期间我国专利技术申请的增速较快,国内专利申请的增长速度已经超越国外。自2000年,我国IC产业专利申请的年平均增长率超过40%,1985-2003年,中国受理专利申请15969件,其中11345件为国外申请人提出的申请,占71%。由中国申请人提出的4624件专利中,内地专利申请量1458件。从中国专利申请数量上看,2000年国内专利申请总量首次超过国外专利申请总量。IC产业成为专利申请量增加最快的领域之一,出现了一些拥有专利
5、技术且在国内市场占有率较高的产品。本土IC设计企业的代表作是中星微的“星光中国芯工程”,设计出了拥有国际专利的数字多媒体芯片,获得了国家科技进步一等奖,申请国内外技术专利近四百项,在国内同行中名列前茅,商业网覆盖了16个国家与地区。图12006年中国IC产业发明专利排名Fig. 1 ThequantityoftheinventionpatentofICindustryat2006inChina1.2 我国IC设计业的产品呈现多元化,向高端产品进展我国已有五百家IC企业,从产品大类来分析,国内能够生产的IC产品要紧是模拟电路、逻辑电路与中低端MCU,应用市场目前要紧集中在消费、IC卡与通信领域的
6、一部分:交通、通信、银行、信息管理、石油、劳动保障、身份识别、防伪等,IC卡芯片比重一直占芯片总体市场的20%左右。表12006年我国IC企业发明专利排名Table1ThequantityoftheinventionpatentofICenterprisesat2006inChina排名企业名称已授权专利数已申请专利数1中星微2007002海思463003大唐40704华大电子30455清华同方30406华虹设计30407昂宝16308炬力10409芯邦10合计4021275产品包含以8位MCU接触式卡与非接触式卡、32位CPU接触式卡与非接触式卡、RF模块、射频读写IC与智能标签等芯片。在新
7、兴的热点领域,目前我国自主设计的芯片产品已涉及CPU/DSP、高档集成电路卡、数字电视(DTV)与多媒体、2G-3G手机与信息安全等领域。在家电、电表等消费类电子产品用的MCU,LCD与AS集成电路等方面,已形成一批IC设计的骨干企业。1.3 我国IC设计方法不断改进近年来,我国IC设计水平不断提高,IC设计实现群体性突破。IC设计已从逆向设计过渡到正向设计,全定制的设计方法也开始得到应用。2004年有69%的IC设计公司应用0.25微米及下列的工艺技术来设计IC。目前国内IC的设计水平已能自行设计0.18微米、500万门以上的IC,在核心技术取得了一些进展。“中国芯工程”进展顺利,方舟、龙芯
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