第三代半导体面SiC碳化硅器件及其应用.docx
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1、第三代半导体面SiC(碳化硅)器件及其应用作为一种新型的半导体材料,SiC以其优良的物理化学特性和电特性成为制造短波长光电子器件、高温器件、抗辐照器件和大功率/高额电子器件最重要的半导体材料.特别是在极端条件和恶劣条件下应用时,SiC器件的特性远远超过了Si器件和GaAs器件.因此SiC器件和各类传感器已逐步成为关键器件之一,发挥着越来超重要的作用.从20世纪80年代起,特别是1989年第一种SiC衬底圆片进入市场以来,SiC器件和电路获得了快速的开展.在某些领域,如发光二极管、高频大功率和高电压器件等,SiC器件已经得到较广泛的商业应用.开展迅速.经过近10年的开展,目前SiC器件工艺已经可
2、以制造商用器件.以Cree为代表的一批公司已经开始提供SiC器件的商业产品.国内的研究所和高校在SiC材料生长和器件制造工艺方面也取得厂可喜的成果.虽然SiC材料具有非常优越的物理化学特性,而且SiC器件工艺也不断成熟,然而目前SiC器件和电路的性能不够优越,除了SiC材料和器件工艺需要不断提升外.更多的努力应该放在如何通过优化S5C器件结构或者提出新型的器件结构以发挥SiC材料的优势方面.ISiC分立器件的研究现状目前.SiC器件的研究主要以分立器件为主.对于每一种器件结构,共最初的研究部是将相应的Si或者GaAs器件结构简单地移植到SiC上,而没有进行器件结构的优化.由于SiC的本征氧化层
3、和Si相同,均为SiO2,这意味着大多数Si器件特别是M帕型器件都能够在SiC上制造出来.尽管只是简单的移植,可是得到的一些器件已经获得了令人满意的结果,而且局部器件已经进入厂市场.SiC光电器件,尤其是蓝光发光二极管在20世纪90年代初期已经进入市场,它是第一种大批量商业生产的SiC器件.日前高电压SiC肖特基二极管、SiC射频功率晶体管以及SiCMOSFET和MESFET等也已经有商业产品.当然所有这些SiC产品的性能还远没有发挥SiC材料的超强特性,更强功能和性能的SiC器件还有待研究与开发.这种简单的移植往往不能完全发挥SiC材料的优势.即使在SiC器件的一些优势领域.最初制造出来的S
4、iC器件有些还不能和相应的Si或者CaAs器件的性能相比.为了能够更好地将SiC材料特性的优势转化为SiC器件的优势,目前正在研究如何对器件的制造工艺与器件结构进行优化或者开发新结构和新工艺以提升SiC器件的功能和性能.1.ISiC肖特基二极管肖特基二极管在高速集成电路、微波技术等许多领域有重要的应用.由于肖特基二极管的制造工艺相比照拟简单,所以对SiC肖特基二极管的研究较为成熟.普渡大学最近制造出了阻断电压高达4.9kV的4H-SiC肖特基二极管,特征导通电阻为43mC7c壮,这是目前SiC肖特基二极管的最高水平.通常限制肖特基二极管阻断电压的主要因素是金一半肖特基接触边沿处的电场集中.所以
5、提升肖特基二极管阻断电压的主要方法就是采用不同的边沿阻断结构以减弱边沿处的电场集也最常采用的边沿阻断结构有3种:深槽阻断、介质阻断和pn结阻断.普放大学采用的方法是硼注入pn结阻断结构,所选用的肖特基接触金属有Ni,Ti.2000年4月Cee和KanSai联合研制出一只击穿电压高达12.3kV的SiC整流器,主要采用了新的外延工艺和改进的器件设计.该器件具有很低的导通电阻,正向导通电压只有4.9V,电流密度高,可以到达100A/CE,是同类Si器件的5倍多.1.2SiC功率器件由于SIC的击穿电场强度大约为Si的8倍.所以SiC功率器件的特征导通电阻可以做得小到相应Si器件的1/400.常见的
6、功率器件有功率MOSFET.IGBT以及多种MOS限制闸流管等.为了提升器件阻断电压和降低导通电阻,许多优化的器件结构已经被使用,表1给出了已报道的最好的SiC功率MOSFET器件的性能数据Si功率MOSFET的功率优值的理论极限大约为5MW/9.除了横向DM0SFET由于特征导通电阻较高而使得优值较小外,其他SiC功率器件的功率优值均大于Si功率MOSFET器件的理论极限,特别是普渡大学制造的UMOS累积型FET的大功率优值是Si极限值的25倍.1.3SiC开关器件到目前为止,SzC开关器件,无论是MOSFETs还是半导体闸流管,通常都是采用纵向器件结构,用衬底作为阴极.关态时,电压被一个反
7、偏的pn结阻断.为了获得更高阻断电压,该Pn的一边即漂移区很厚,而且掺杂浓度要低,所以纵向SiC功率开关器件的阻断电压主要依赖于漂移区的掺杂浓度和厚度.漂移区厚度一定时,不管掺杂浓度如何,总存在一个最大可能的阻断电压.然而至今,所能获得的SiC外延层的厚度最大只有IOPm这就决定了最大可能的阻断电压大约为1600V.有效克服这一限制的方法就是改变器件的结构,即采用横向器件结构.普渡大学已经采用横向器件结构制造出了横向DMOSFETs.首先在绝缘4H-SiC讨底上外延n型SiC,然后在外延层上制造器件.显然,横向器件结构的最大阻断电压不受外延层厚度的限制,采用这种结构已经制造出了阻断电压高达2.
8、6kV的LDMOSFETS.然而目前的横向LDMoSFET的特征导通电阻还比拟高,这主要是由于当用横向结构代替纵向结构时.所需的器件面积将会增大.如果能够把减小外表电场概念和器件设计结合起来,那么导通电阻能够做得比相应的纵向器件还低.1.4SiC微波S件SiC的高饱和漂移速度、高击穿场强和高热导率特性使得SiC成为1-10GHZ范围的大功率微波放大器的理想材料.短沟道SiCMESFETs的特征频率已经到达22GHz.最高指荡频率f可以到达50GHz.静电感应晶体管(SrrS)在600MHz时功率可以到达470W(功率密度为1.36Wmm),3GHz时功率为38W(L2Wmm).由于SiC的热导
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- 第三代 半导体 SiC 碳化硅 器件 及其 应用