铜合金的应力腐蚀及三个案例.docx
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1、铜合金的应力腐蚀及三个案例目录?为什么氨腐蚀在铜及其合金中很常见?11. 1.概述11.2. H2S-NH3-H2O21.3. 氨气催化重整21.4. 延迟焦化装置的氨腐蚀21.5. 硫磺回收装置的氨腐蚀3?铜合金的应力腐蚀及案例3?铜和铜合金SCC机理3?铜SCC的影响因素6?.合金成分的影响。6?应力作用的影响。6?环境介质的影响。7?pH值对于的黄铜季裂时间的影响。7?不同氯含量对脱锌层应力的影响。9?防止SCC的措施9?降低和消除应力。9?控制环境。10?改善材质。10?铜合金的应力腐蚀的三个案例10?案例1.H65黄铜管开裂口10?案例2、低压加热器黄铜管换热器管束的应力腐蚀12?案
2、例3.糖机热交换器H62黄铜管开裂分析口14?结论:15?参考文献15为什么氨腐蚀在铜及其合金中很常见?1.1. 概述氨是生产硝酸,钱盐和胺的重要原料。氨在室温下为气体,可以在压力下液化。除铜和其他铜合金外,大多数金属,例如不锈钢,铝,镁,钛等,对氨气,液氨和氨水均具有优异的耐腐蚀性。铜-包括海军黄铜和铝黄铜在内的锌合金是最容易受到氨引起的应力腐蚀开裂(NFSCC)的铜合金。铜合金换热器管中的氨应力腐蚀开裂的特征是表面开裂,绿色/浅蓝色的铜氨气腐蚀复合物(化合物)以及在管表面形成单个或高度分支的裂纹,该裂纹可以是跨晶的或晶间的,具体取决于环境和压力水平。当介质同时满足以下条件时,会形成液氨应力
3、腐蚀:液氨(水含量不超过0.2%)可能被空气(氧气或二氧化碳)污染的场合;工作温度高于5。实际上,氧气和其他氧化剂(例如水)是铜应力腐蚀的重要条件。在加工过程中,由于原油和添加剂中的杂质,石油精炼中存在很多潜在的腐蚀。胺引起的开裂腐蚀的类型包括:1.2. HzSNH3H2腐蚀这主要取决于介质的浓度,流速和特性。NH3和HzS的浓度越高,腐蚀越严重。管中流体的流速越高,腐蚀越强。低流速导致镂盐沉积和局部腐蚀。某些介质(例如氟化物)会加剧腐蚀,而氧气(随注入的水进入)会加速腐蚀。硫酸烷基化塔顶的氨腐蚀为了控制分储区塔顶系统的过度腐蚀,碱洗和洗涤反应器产品对于去除酸性杂质非常重要。中和和成膜胺抑制剂
4、的先例有时已在塔顶系统中使用。为了降低腐蚀速率并减少抑制剂的用量,中和胺或NH3可以将塔顶水冷凝物的PH值中和至6至7。但是,在某些情况下,N&会导致架空冷凝器中的海军黄铜管应力腐蚀开裂。1.3. 氨气催化重整催化重整装置中有几种类型的应力腐蚀开裂,其中之一是氨引起的应力腐蚀开裂。N%存在于预处理反应器和重整反应器的流出物中,并溶于水中形成氨,导致铜基合金快速应力腐蚀开裂。1.4. 延迟焦化装置的氨腐蚀延迟焦化装置的设备易受低温腐蚀机制的影响,包括氨引起的铜基合金应力开裂。这些腐蚀机理在水淬,蒸汽焦炭清洁和排气过程中起作用。但是,由于所有焦化塔通常都设有排气管和排污罐,因此它们几乎连续暴露在潮
5、湿的排气蒸汽和液体中。骤冷和排出的蒸汽和液体通常包含大量的&S,NH3,NH4Cl,NH4HSSlft化物,它们是从进料到焦化厂的热裂解反应中释放出来的。由于在焦化装置中存在NH3,在高PH值的铜合金管中会发生氨引起的应力腐蚀开裂。1.5. 硫磺回收装置的氨腐蚀气体进料通常富含H2S和饱和水蒸气,也可能与碳氢化合物和胺类混合,这可能导致H渗透到金属中,因此请考虑氢致裂化(包括氢鼓胀)和硫化物应力裂化(SSC)中的气体。此外,气体进料中可能存在NE,这可能导致NH3引起的应力腐蚀开裂,而鼠化物也可以加快腐蚀速度。当Zn的质量分数降低到15%以下时,CuZn合金的耐蚀性得到改善。有时可以通过防止空
6、气进入来控制蒸汽环境中的SCCo通常通过检查和监测水样和NH3的PH值来评估铜合金的敏感性。涡流的电流检查或目视检查可用于判断热交换器束是否破裂。简而言之,在涉及氨和液氨的生产过程中应避免使用铜及其合金。铜合金的应力腐蚀及案例铜具有面心立方晶体结构,易于加工成形,具有高的导电性及导热性。铜为正电性金属,离子化为CM和Cu时,标准电极电位分别为0.337V和0.521V,因此,铜有较好的耐蚀性,是最广泛使用的有色金属。常用的铜及铜合金有4种:纯铜,黄铜,青铜(锡青铜CU-Sn、铝青铜CU-Al和硅青铜CuSi)和白铜(CwNi),在压力容器中纯铜与黄铜使用较多。纯铜是指铜质量分数不低于99.5%
7、的工业铜。黄铜系Cu和Zn组成的二元合金。锌质量分数V30%40%的黄铜具有Q相与少量的B相,因而提高了强度、塑性、耐蚀性。黄铜和青铜等合金都能发生SCC,纯铜在含氨介质中也能产生SCc1。?.铜和铜合金SCC机理表面膜破裂机理。由铜的EpH图可知,铜在水溶液中腐蚀时,不会发生放氢的阴极反应,因而其SCC不是氢致开裂机理。表面膜破裂SeC机理认为,在含氨的介质中,铜和铜合金表面生成“晦暗膜”(tarnish,以CO为主体的氧化物薄膜),而铜合金晶界优先生成此膜,图1b。晦暗膜质脆,在拉应力作用下发生破裂。据铃木等研究,纯铜上晦暗膜在晶粒上破裂,黄铜上晦暗膜在晶界上破裂,图丘。膜破裂处,溶液腐蚀
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